產品資訊 Products

1. 單劑添加，使用管理方便

2. 鍍層組織更加細密，耐蝕性更加

3. 經此鍍層，可直接鍍鎳，降低成本

1. 單一型添加劑，日常生產添加便捷

2. 鍍件可獲得高平整性及高效率的鍍層

3. 可直接鍍鎳並且減少針孔及粗糙的現象

4. 可降低陽極極化，提高導電性

1. 不含氰化物、焦磷酸鹽的鹼性鍍銅新工藝

2. 可直接電鍍在鋼鐵、鋅合金、鋅化後的鋁合金等 金屬表面

3. 鍍層平滑，密緻且柔軟，無孔隙

4. 分散能力和覆蓋力極佳

5. 使用碳酸鉀調整pH

1. 單液使用，適用範圍廣，管理容易

2. 鍍層高平滑及柔韌性，可得鏡面光澤效果

3. 高濃縮配方，須稀釋30倍即可直接使用

1. 鍍層光亮，平整性及低電位走位佳

2. 電流效率高且附著性良好

3. 可節省電鍍時間及降低成本

4. 如高低電位有斷層，可添加R.S. 752整平鍍層並增 加光亮度

1. 光澤及平滑速度快

2. 不會在操作中分解而造成污染

3. 適用於塑膠、銅合金、鋅合金鑄件及鋼鐵等素材 上之銅電鍍

1. 光澤範圍廣，平滑性好，效果極佳

2. 消耗量少，成本低，極具經濟效益

3. 對硫酸，氯離子容忍度高，安定性佳，操作容易

1. 安定性極佳，管理容易，適合長期性連續作業

2. 光澤及平滑速度快，可在短時間內得到良好鍍層

3. 具有極佳的光澤及平滑特色

1. 清亮的特殊光澤，藥水管理容易

2. 出光速度快，平整性好且不易產生麻點

3. 使用壽命長，可降低生產成本

1 . 單液使用, 管理容易

2. 鍍層高度平滑及完美低電流鍍層

3. 電流效率高且附著性良好

4. 可節省電鍍時間及降低成本

1 . 能在短時間內得到高度光澤性與平整性

2. 操作簡單，管理容易，消耗量低

1 . 析出速度快, 延展性佳

2. 可長期維持鍍層硬度

3. 鍍層高度平滑, 均一性高

4. 不產生針孔及起伏不平現象

1 . 可以獲得細緻、高深鍍能力及延展性佳的電鍍銅層

2. 適用於不溶性陽極的銅箔高速鍍銅工藝

3. 適合線路板高速連續鍍銅及脈衝電鍍銅工藝，具有優異的均勻鍍層

1. 若底材為非導體，須先活化

2. 適用於雷射激活後的化學沉銅工藝

3. 鍍層結晶細緻、均勻完整