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1. 添加剂不含硫，能维持半光镍与全光镍 之间的电位差约120-180mv，故增加腐蚀性能

2. 镀层拉伸应力低，柔软度极佳，附着力良好

3. 消耗量少，经济效益高，管理容易

1. 三液型使用，不含硫，故能维持半光镍与全光镍之间的腐蚀电位差可达到120-180mv增加腐蚀性能

2. 镀层无拉伸力，柔软度极佳，附着力良好

3. 平滑度高，全光镍之被覆力强，不会产生双层镀镍现象

4. 消耗量少，经济效益高，管理容易

1. 在半光镍与全光镍之间，加镀含硫量0.15-0.5%的镍层可产生大于150mv的电位差，提高耐蚀性能

2. 结合力良好，韧性、整平性能佳

1. 填平度极佳，低电位走位良好

2. 镀层含硫量低，应力相对降低，耐腐蚀性能佳

3. 上铬性能好，不会产生白雾

4. 光亮度均一，出光速度快，可提高产能

5. 用量少，成本低，容易管理

1. 延展性极佳，内应力低，附着力优良

2. 光亮速度快，能缩短作业时间，降低成本

3. 使用寿命长，对杂质、不纯物的容忍度高

4. 不易被活性碳吸附，管理容易

1. 延展性极佳，内应力低，附着力良好

2. 走位性能佳，光亮速度快

3. 使用寿命长，对各种杂质、不纯物的容忍度高

4. 内应力低，非常适合厚镀镍

1. 延展性极佳，附着力优良

2. 光亮速度极快，可在短时间得到镜面的镀层

3. 不易分解，对各种杂质容忍度高，故使用量及消耗量低

4. 适用于滚镀及挂镀

1. 延展性极佳，内应力低，附着力优良

2. 可获得均一且光亮镜面之镀层

3. 低电流区走位特优，适用于各种素材之电镀

4. 对各种杂质、不纯物的容忍度高

5. 对镀铬之被覆及活化性良好，不易造成雾状

1. 可用于电铸镍功能性之电镀

2. 镀层白亮，走位性能好佳，适用于镀金、银前之底层镀镍

3. 低电位覆盖力强

4. 操作范围宽广，容易控制

5. 适用于滚镀及挂镀

1. 镀层光亮性、柔软性、对后续镀铬性能佳

2. 使用周期长，经济效益高

3. 低电位覆盖力强

4. 光泽速度快，能缩短作业时间，降低成本

5. 适用于滚镀及挂镀

1. 出光速度快，走位性能佳

2. 延展性极佳，内应力低，附着力优良

3. 使用周期长，经济效益高

4. 对金属及有机杂质污染的容忍度高

1. 适用于镀厚镍，流平优异

2. 延展性好，内应力低，附着力优良

3. 出光速度快，能缩短作业时间，降低成本，增加效益

4. 使用寿命长，对杂质、不纯物的容忍度高

1. 镀层柔软，内应力低，延展性佳

2. 沉积速度快，均一电着力佳

3. 本液纯净度高，使用前不须活性碳过滤或弱电解

4. 可单独使用，管理容易

1. 特别适用于防腐蚀性能严格的多层镍电镀工艺

2. 镀层为针柱薄膜结构，组织细小密集，在镀铬时可促进铬镀层的被覆能力

1. 具有优良的抗腐蚀性能

2. 内应力小，微孔数高，电镀每分钟平均唯恐数可达20000-38000颗/厘米

3. 镀层光亮柔软，不是消光，对后续镀铬的亲铬性良好